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高晶硅材料中使用的气体质量流量控制器

发布时间:2022-06-06人气:802

   随着近几年来,半导体材料行业的快速发展,稳定精准的气体质量流量控制器被越来越广泛的使用。由于硅半导体耐高电压、耐高温、晶带宽度大,比其它半导体材料有体积小、效率高、寿命长等优点,因此被广泛用于电子工业集成电路的生产中。晶体硅材料是主要的光伏材料,性质为带有金属光泽的灰黑色固体、熔点高、硬度大、有脆性、常温下化学性质不活泼,其市场占有率在 90%以上。

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   气体质量流量控制器采用热扩散原理,热扩散技术是一种在苛刻条件下性能优良、可靠性高的技术。其典型传感元件包括两个热电阻(铂RTD),一个是速度传感器,一个是自动补偿气体温度变化的温度传感器。当两个RTD被置于介质中时,其中速度传感器被加热到环境温度以上的一个恒定的温度,另一个温度传感器用于感应介质温度。流经速度传感器的气体质量流量是通过传感元件的热传递量来计算的。气体流速增加,介质带走的热量增多。使传感器温度随之降低。为了保持温度的恒定,则必须增加通过质量流量控制器的工作电流,此增加的部分电流大小与介质的流速成正比。

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   热式气体质量流量传感器是气体质量流量控制器中一个重要的核心部件,对气体质量流量控制器的性能指标,如零漂、线性、重复度、响应时间等重要指标参数有直接影响,要使气体质量流量控制器的性能指标得到明显改善,首先就要提升热式气体质量流量传感器的性能。

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